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掃描電子顯微鏡（SEM）產(chǎn)品及廠家

德國KSI 型 全自動晶圓超聲波缺陷檢測系統(tǒng)
德國ksi i-wafer型全自動晶圓超聲波缺陷檢測系統(tǒng)，在ksi i-wafer的探測下，晶圓中的孔隙、分層或者雜質(zhì)都能被發(fā)現(xiàn)。尺寸在450mm的多種晶圓也能進行檢測
更新時間:2025-07-01
KSI 型全自動晶錠分析檢測系統(tǒng)
ksi i-ingot型全自動晶錠分析檢測系統(tǒng),適用于對晶錠的無損檢測，有了它，晶錠內(nèi)部的裂縫或雜質(zhì)就能得到快速檢測，晶錠的尺寸可達450mm，檢測時間短，也不需要做其它設定。
更新時間:2025-07-01
KSI高分辨率表層缺陷超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
ksi－nano型高分辨率表層缺陷超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)聲學顯微成像系統(tǒng)和光學顯微成像系統(tǒng)的完美結(jié)合
更新時間:2025-07-01
德國KSI 雙探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
ksi v-duo 雙探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)，同時使用2只換能器
更新時間:2025-07-01
德國ZEISS蔡司聚焦離子束掃描電鏡FIB/SEM
德國zeiss蔡司聚焦離子束掃描電鏡fib/sem crossbeam 350，crossbeam 550
更新時間:2025-07-01
日本JEOL掃描電子顯微鏡
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it200 intouchscope ，是一款更簡潔、更易于使用且性價比高的掃描電子顯微鏡。使用初學者易懂的樣品交換導航，可以輕松地從樣品臺搜索視野并開始觀察sem圖像。zeromag能像光鏡一樣直觀地搜索視野，live analysis*2可以不用特意分析就能實時獲取元素分析結(jié)果，smile viewtm lab能綜合編輯觀察和分析報告等。
更新時間:2025-07-01
日本JEOL掃描電子顯微鏡
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500hr，采用新開發(fā)的高亮度電子槍和透鏡系統(tǒng)，可以更迅速便捷地提供令人驚嘆的高分辨率圖像、高靈敏度和高空間分辨率；從設定視野到生成報告，利用完全集成的軟件大大地提高了作業(yè)速度。
更新時間:2025-07-01
日本JEOL熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本jeol熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f
更新時間:2025-07-01
日本JEOL低溫冷凍離子切片儀
日本jeol低溫冷凍離子切片儀ib-09060cis，冷卻保持時間長，有效地抑制了熱損傷。易受熱損傷的樣品，也能方便地制作出薄膜樣品和截面樣品。
更新時間:2025-07-01
日本JEOL 離子切片儀
日本jeol 離子切片儀 em-09100is ，用于tem 、stem 、 sem 、 epma 和 auger樣品制備的創(chuàng)新方法 離子切片儀制備薄膜樣品比傳統(tǒng)制備工具快速、簡單。低能量、低角度（0°到6°）的氬離子束通過遮光帶照射樣品，大大降低了離子束對樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質(zhì)量也好，對不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。
更新時間:2025-07-01
日本JEOL截面樣品拋光儀
日本jeol截面樣品拋光儀ib-19530cp，采用多用途樣品臺，通過交換各種功能性樣品座實現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時間:2025-07-01
日本JEOL截面樣品制備裝置
日本jeol截面樣品制備裝置ib-19530cp，采用多用途樣品臺，通過交換各種功能性樣品座實現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時間:2025-07-01
日本JEOL 截面樣品拋光儀
日本jeol 截面樣品拋光儀 ib-19520ccp，在加工過程中利用液氮冷卻，能減輕離子束對樣品造成的熱損傷。冷卻持續(xù)時間長、液氮消耗少的構(gòu)造設計。在裝有液氮的情況下，也能將樣品快速冷卻、恢復到室溫，并且可以拆卸。配有傳送機構(gòu)，在隔離空氣的環(huán)境下能完成從加工到觀察的全過程。
更新時間:2025-07-01
日本JEOL 軟X射線分析譜儀
日本jeol 軟x射線分析譜儀，通過組合新開發(fā)的衍射光柵和高靈敏度ｘ射線ccd相機，實現(xiàn)了高的能量分辨率。 和eds一樣可以并行檢測，并且能以0.3ev(費米邊處al-l基準)的高能量分辨率進行分析，超過了wds的能量分辨率。
更新時間:2025-07-01
日本JEOL 電子探針顯微分析儀
日本jeol 電子探針顯微分析儀 jxa-ihp100，可以安裝通用性強、使用方便的能譜儀x射線探測器，組合使用wds和eds，能提供無縫、舒適的分析環(huán)境。
更新時間:2025-07-01
日本JEOL 聚焦離子束加工觀察系統(tǒng)
日本jeol 聚焦離子束加工觀察系統(tǒng) jib-4000，配置了高性能的離子鏡筒(單束fib裝置)。被加速了的鎵離子束經(jīng)聚焦照射樣品后，就能對樣品表面進行sim觀察 、研磨，沉積碳和鎢等材料。還可以為tem成像制備薄膜樣品，為觀察樣品內(nèi)部制備截面樣品。通過與sem像比較，sim像能清楚地顯示出歸因于晶體取向不同的電子通道襯度差異，這些都非常適合于評估多層鍍膜的截面及金屬結(jié)構(gòu)。
更新時間:2025-07-01
日本JEOL 雙束加工觀察系統(tǒng)
日本jeol 雙束加工觀察系統(tǒng) jib-4700f，該設備的sem鏡筒中采用了超級混合圓錐形物鏡、gb模式和in-lens檢測器系統(tǒng)，在1kv低加速電壓下,實現(xiàn)了1.6nm的保證分辨率,與最大能獲得300na探針電流的浸沒式肖特基電子槍組合，可以進行高分辨率觀察和高速分析。
更新時間:2025-07-01
日本JEOL 能量色散型X射線熒光分析儀
日本jeol 能量色散型x射線熒光分析儀 jsx-1000s，采用觸控屏操作、提供更加簡便迅速的元素分析。具備常規(guī)定性、定量分析（fp法・檢量線法）、rohs元素篩選功能等。利用豐富的硬件/軟件選配件、還能進行更廣泛的分析。
更新時間:2025-07-01
ZEISS 高分辨電子掃描顯微鏡
zeiss 高分辨電子掃描顯微鏡-evo 10,具備自動化工作流程的高清晰掃描電鏡
更新時間:2025-07-01
日本電子JEOL場發(fā)射掃描電鏡
jsm-it800shl 是日本電子株式會社（jeol） 2020 年新推出的場發(fā)射掃描電鏡，它秉承 jeol 熱場發(fā)射掃描電鏡 jsm-7900f 的大束流，高穩(wěn)定性的傳統(tǒng)，同時將分辨率提高到新的限，全新設計的超混合型物鏡，高分辨率的獲得以及磁性樣品的觀察都可以同時完成，而且標配 jeol 新開發(fā)的 neo
更新時間:2025-07-01
日本電子掃描電子顯微鏡
日本電子掃描電子顯微鏡jcm-700強大的"zeromag"功能，讓您從光學顯微鏡的觀察方式，輕松的無縫接軌到掃描電鏡的影像觀察。"live analysis"則實現(xiàn)了sem影像觀察時實時的eds成份分析。
更新時間:2025-06-30
超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡
sem5000x是一款超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡，其分辨率達到了突破性的0.6 nm@15 kv和1.0 nm@1 kv。高分辨物鏡設計、高壓隧道技術(shù)（supertunnel）以及鏡筒工藝升，實現(xiàn)了低電壓分辨率的進一步提升。全新設計的樣品倉，擴展接口增加至16個，快速換樣倉大支持8寸晶圓（大直徑208 mm），大擴展應用范圍。高掃描模式和自動功能增強，帶來了更強的性能和更好的體驗。
更新時間:2025-06-30
聚焦離子束電子束雙束顯微鏡
db500擁有自主可控的場發(fā)射電子鏡筒和“承影”離子鏡筒，是一款優(yōu)雅全能的納米分析和制樣工具。高壓隧道技術(shù)（supertunnel）、低像差無漏磁物鏡設計，低電壓高分辨率成像，保證納米分析能力！俺杏啊彪x子鏡筒采用液態(tài)鎵離子源，擁有高穩(wěn)定、高質(zhì)量的離子束流，保證納米加工能力。集成式的納米機械手、氣體注入器、電子物鏡防污染機構(gòu)，擁有24個擴展口，配置全面，自主可控，擴展性強，為您打造全能納米分析和加
更新時間:2025-06-30
國儀量子高分辨率場發(fā)射掃描電鏡
國儀量子場發(fā)射掃描電鏡sem5000，可實現(xiàn)低電壓高分辨成像，磁性樣品也可適用，豐富的接口，滿足多樣的需求，精心設計的人機交互方便操作，快速上手
更新時間:2025-06-30
國儀量子高分辨低真空鎢燈絲掃描電鏡
sem3200是一款高性能、應用廣泛的通用型鎢燈絲掃描電子顯微鏡。擁有出色的成像質(zhì)量、可兼容低真空模式、在不同的視場范圍下均可得到高分辨率圖像。大景深，成像富有立體感。豐富的擴展性，助您在顯微成像的中盡情探索。
更新時間:2025-06-30
供應蘇州日立FlexSEM1000 II鎢燈絲掃描電鏡
flexsem1000 ii是日立新的落地式小型鎢燈絲掃描電鏡，具有體積小、操作簡單、性能強、擴展功能豐富等特點。flexsem1000 ii配備了二次電子探測器和背散射電子探測器，可以觀察樣品的形貌和成分；同時具有低真空功能，可以直接觀察不導電樣品和含水樣品；配合新增的sem-map光鏡導航和5軸樣品臺可以快速、高效的完成觀察任務。
更新時間:2025-06-30
供應蘇州日立TM4000Ⅱ掃描電鏡
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨特的低真空系統(tǒng)使得樣品不需任何處理即可快速進行觀察。 tm4000ⅱ優(yōu)化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調(diào)，并配備4分割背散射探測器，可采集四個不同方向的圖像信息，對樣品進行多種模式成像。具有全新的sem-map導航功能，同時，電鏡圖片可以報告形式導出。配備大型樣品倉，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時間:2025-06-30
供應蘇州日立FlexSEM1000 II鎢燈絲掃描電鏡
flexsem1000 ii是日立新的落地式小型鎢燈絲掃描電鏡，具有體積小、操作簡單、性能強、擴展功能豐富等特點。flexsem1000 ii配備了二次電子探測器和背散射電子探測器，可以觀察樣品的形貌和成分；同時具有低真空功能，可以直接觀察不導電樣品和含水樣品；配合新增的sem-map光鏡導航和5軸樣品臺可以快速、高效的完成觀察任務。
更新時間:2025-06-30
供應蘇州日立TM4000Ⅱ掃描電鏡
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨特的低真空系統(tǒng)使得樣品不需任何處理即可快速進行觀察。 tm4000ⅱ優(yōu)化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調(diào)，并配備4分割背散射探測器，可采集四個不同方向的圖像信息，對樣品進行多種模式成像。具有全新的sem-map導航功能，同時，電鏡圖片可以報告形式導出。配備大型樣品倉，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時間:2025-06-30
供應蘇州日立TM4000Ⅱ掃描電鏡
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨特的低真空系統(tǒng)使得樣品不需任何處理即可快速進行觀察。 tm4000ⅱ優(yōu)化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調(diào)，并配備4分割背散射探測器，可采集四個不同方向的圖像信息，對樣品進行多種模式成像。具有全新的sem-map導航功能，同時，電鏡圖片可以報告形式導出。配備大型樣品倉，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時間:2025-06-30
FEI臺式掃描電鏡Phenom飛納 標準版
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍，用于觀察亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。pure 具有全自動操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點，適用于傳統(tǒng)大電鏡待測樣品的快速篩選，也適合于光學顯微鏡的分辨率無法滿足需求的客戶。
更新時間:2025-06-27
FEI臺式掃描電鏡飛納（Phenom） 業(yè)版
第六代 phenom pro 臺式掃描電鏡是一款功能強大，輕松易用的多功能設備。長壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴展了研究設備的功能，結(jié)合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時間:2025-06-27
飛納（Phenom）臺式掃描電鏡 能譜版
加快材料研究的突破性進展，您的實驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進光路設計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時間:2025-06-27
Phenom 飛納煙草紙張領域掃描電子顯微鏡
phenom 飛納煙草紙張領域掃描電子顯微鏡
更新時間:2025-06-27
Phenom臺式掃描電子顯微鏡標準版Pure
放大倍數(shù)：20000x；分辨率：優(yōu)于30nm；燈絲：1500小時ceb6燈絲抽真空時間：10；樣品移動方式：自動馬達樣品臺樣品定位方式：光學和低倍電子雙重導航樣品導電性要求：無需噴金，直接觀測絕緣體
更新時間:2025-06-27
飛納臺式掃描電鏡
加快材料研究的突破性進展，您的實驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進光路設計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時間:2025-06-27
飛納臺式掃描電子顯微鏡 Phenom ProX
加快材料研究的突破性進展，您的實驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進光路設計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時間:2025-06-27
飛納臺式掃描電鏡 Phenom ProX
加快材料研究的突破性進展，您的實驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進光路設計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時間:2025-06-27
飛納臺式掃描電子顯微鏡業(yè)版Pro
第六代 phenom pro 臺式掃描電鏡是一款功能強大，輕松易用的多功能設備。長壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴展了研究設備的功能，結(jié) 合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時間:2025-06-27
飛納臺式掃描電子顯微鏡標準版Pure
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍，用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。基于高亮度 ceb6 燈絲和全新的聚焦系統(tǒng)，phenom pure 的分辨率輕松達到 10 nm，同時具有全自動操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點。
更新時間:2025-06-27
飛納臺式掃描電鏡 Phenom Pro
第六代 phenom pro 臺式掃描電鏡是一款功能強大，輕松易用的多功能設備。長壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴展了研究設備的功能，結(jié) 合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時間:2025-06-27
飛納臺式掃描電鏡Phenom Pro
飛納掃描電鏡是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺式掃描電鏡。放大倍數(shù) 350,000 倍，用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。
更新時間:2025-06-27
飛納臺式掃描電鏡 Phenom XL
全新的易于學習的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應用的理想選擇。phenom xl g2 升為全面屏成像，平均成像時間僅為 40 ，比市場上其他臺式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對大 100 x 100mm 的樣品進行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細節(jié)。利設計的放氣/樣品裝載系統(tǒng)可以實現(xiàn)全快的放氣/裝載速度，并獲得大的樣品吞吐效率。
更新時間:2025-06-27
飛納臺式掃描電鏡電鏡能譜一體機
加快材料研究的突破性進展，您的實驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進光路設計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時間:2025-06-27
飛納臺式掃描電子顯微鏡 Phenom Pro
飛納高分辨率業(yè)版 phenom pro 是飛納電鏡系列中先進的產(chǎn)品，第五代 phenom pro 放大倍數(shù)提升為 150,000 倍，分辨率優(yōu)于 8 nm，30 快速得到表面細節(jié)豐富的高質(zhì)量圖像
更新時間:2025-06-27
飛納臺式掃描電鏡大樣品室卓越版
全新的易于學習的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應用 的理想選擇。phenom xl g2 升為全面屏成像，平均成像時間僅為 40 ，比市場上其他臺式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對大 100 x 100mm 的樣品進行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細節(jié)。利設計的放氣/樣品裝載系統(tǒng)可以實現(xiàn)全 快的放氣/裝載速度，并獲得大的樣品吞吐效率。
更新時間:2025-06-27
飛納臺式掃描電子顯微鏡 Phenom ProX
飛納電鏡能譜一體機 phenom prox 是終的集成化成像分析系統(tǒng)。借助該系統(tǒng)，既可觀察樣品的表面形貌，又可分析其元素組分。
更新時間:2025-06-27
飛納臺式掃描電鏡
荷蘭飛納公司隆重推出飛納卓越版飛納臺式掃描電鏡 phenom xl
更新時間:2025-06-27
日立超高分辨率掃描電子顯微鏡 SU8200系列
這種新型的冷場發(fā)射電子槍采用日立專利的“柔性閃爍”“mild flashing”技術(shù)和全新改進的真空系統(tǒng)，在發(fā)射極尖端極大限度減少氣體分子附著。 發(fā)射極始終運行于“潔凈”的狀態(tài)，發(fā)射電流和電子束穩(wěn)定性顯著提升。 即使在低加速電壓下，也可以得到高信噪比的sem信號并進行高分辨觀察。 這些增強性能開辟了低電壓下元素微量分析的全新里程。
更新時間:2025-06-25
日立超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡 SU9000
專門為電子束敏感樣品和需最大300萬倍穩(wěn)定觀察的先進半導體器件，高分辨成像所設計。
更新時間:2025-06-25

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