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光學(xué)平臺(tái)產(chǎn)品及廠家
100S接觸角測量儀
100s接觸角測量儀是采用光學(xué)成像的原理,通過圖像輪廓分析方式測量樣品表面接觸角、潤濕性能、表界面張力、表面能等性能,設(shè)備性價(jià)比高、功能全面、可滿足各種常規(guī)測量需要。
更新時(shí)間:
2025-07-01
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
100S德國KRUSS標(biāo)準(zhǔn)型DSA25接觸角測量儀
德國kruss標(biāo)準(zhǔn)型dsa25接觸角測量儀,接觸角測量范圍:0-180,接觸角測量精度:±0.10,表界面張力測量范圍:0-1000mn/m;測量精度:0.01 mn/m
更新時(shí)間:
2025-07-01
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
MDPmap德國Sentech光伏測量儀
德國sentech光伏測量儀mdpmap,靈活的自動(dòng)掃描系統(tǒng),是專為半導(dǎo)體晶片或部分工藝過的晶片的多功能、非接觸和少子壽命測量而設(shè)計(jì)的。mdpmap能夠連續(xù)地改變激發(fā)脈沖寬度,從非常短的脈沖(100ns)到穩(wěn)態(tài)測量(幾ms),研究不同深度的缺陷動(dòng)力學(xué)和少子壽命特性。直觀的繪圖軟件適用于有效的常規(guī)測量以及復(fù)雜的研發(fā)應(yīng)用。
更新時(shí)間:
2025-07-01
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
THz-NeaSNOMOptiCool超精準(zhǔn)全開放強(qiáng)磁場低溫光學(xué)研究平臺(tái)
opticool超精準(zhǔn)全開放強(qiáng)磁場低溫光學(xué)研究平臺(tái),系統(tǒng)擁有3.8英寸超大樣品腔、雙錐型劈裂磁體,可在超大空間為您提供高達(dá)±7t的磁場。多達(dá)7個(gè)側(cè)面窗口、1個(gè)頂部超大窗口方便光線由各個(gè)方向引入樣品腔,高度集成式的設(shè)計(jì)讓您的樣品在擁有低溫磁場的同時(shí)擺脫大型低溫系統(tǒng)的各種束縛。
更新時(shí)間:
2025-07-01
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
attoAFM/attoMFM/attoSHPM低溫強(qiáng)磁場原子力/磁力/掃描霍爾顯微鏡
attoafm/attomfm/attoshpm 低溫強(qiáng)磁場原子力/磁力/掃描霍爾顯微鏡,采用模塊化的設(shè)計(jì)。利用標(biāo)配的控制器和樣品掃描臺(tái),用戶僅需要更換掃描頭和對(duì)應(yīng)的光學(xué)部件即可實(shí)現(xiàn)不同功能之間的切換。
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2025-07-01
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
NRR-4000, NRE-4000, NRE-3000, NDR-4000美Nano-master RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)
美nano-master rie反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)nrr-4000 獨(dú)立式雙rie或icp刻蝕系統(tǒng)nre-4000 獨(dú)立式rie或icp系統(tǒng)nre-3000 臺(tái)式rie系統(tǒng)ndr-4000 深硅刻蝕系統(tǒng)
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2025-07-01
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
NNDT-4000美Nano-master 熱真空太空模擬系統(tǒng)
美nano-master 熱真空太空模擬系統(tǒng) ndt-4000,是一款器件測試系統(tǒng),俗稱“熱真空系統(tǒng)”,可以用于真空和可控的均勻加熱以及冷卻循環(huán)條件下的器件或樣片測試。
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2025-07-01
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
NRT-3500, NRT-4000美NANO-MASTER RTP快速退火爐
美nano-master rtp快速退火爐nrt-3500 緊湊型獨(dú)立式全自動(dòng)rtp系統(tǒng)nrt-4000 獨(dú)立式全自動(dòng)rtp系統(tǒng)nrt-4000 獨(dú)立式大批量rtp系統(tǒng)nir-4000 獨(dú)立式 ibe / rie 雙刻蝕系統(tǒng)nie-3000 臺(tái)式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nsc-3000可支持多4個(gè)靶的dc濺射或rf濺射
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2025-07-01
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
SWC-3000,SWC-4000, SWC-5000美NANO-MASTER SWC單晶圓清洗系統(tǒng)
美nano-master swc單晶圓清洗系統(tǒng)swc-3000 臺(tái)式單晶圓/掩膜版清洗系統(tǒng)swc-4000 立柜式單晶圓/掩膜版清洗系統(tǒng)swc-5000 帶25片cassette 機(jī)械手自動(dòng)清洗nrt-4000 獨(dú)
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2025-07-01
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
LSC-4000美Nano-master 大基片清洗機(jī)
美nano-master 大基片清洗機(jī) large substrate cleaning :lsc-4000 是一款獨(dú)立式清洗機(jī),使用計(jì)算機(jī)控制,大可支持外徑21”的基片。
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2025-07-01
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HMS-5300LTH韓國Ecopia 全自動(dòng)變溫霍爾效應(yīng)測試儀
韓國ecopia 全自動(dòng)變溫霍爾效應(yīng)測試儀 hms-5300lth,溫度范圍:80k-573k,測量材料si, sige, sic, gaas, ingaas, inp, gan, tco(including ito),alzno, fecdte, zno 等所有半導(dǎo)體薄膜(p 型和 n 型);
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2025-07-01
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Q150T PLUS英國Quorum鍍金鍍碳一體機(jī)
英國quorum q150t plus 鍍金鍍碳一體機(jī),是一款優(yōu)化設(shè)計(jì)的帶渦輪分子泵抽真空的鍍膜設(shè)備,真空度可達(dá)5x10-5mbar?梢詾R射具有超細(xì)成膜顆粒的易氧化金屬,適用于高分辨率成像。同樣地,低散射可得到均勻而致密的無定形碳膜。
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2025-07-01
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HBO350W/S,HBO5000W/S,HBO200W/DC,HBO1000W/DSUSS光刻機(jī)用曝光燈HBO系列
suss蘇斯/休斯,evg, oai等系列光刻機(jī)用曝光燈hbo系列,suss蘇斯,evg, oai公司生產(chǎn)的半導(dǎo)體和太陽能行業(yè)用光刻機(jī),目得到業(yè)界的廣泛認(rèn)同,該系列光刻機(jī)曝光系統(tǒng)的曝光燈,主要是由德國歐司朗及日本牛尾公司生產(chǎn)的曝光燈進(jìn)行配套供應(yīng)。歐司朗/牛尾曝光燈系列,具備良好的光通量,穩(wěn)定的光強(qiáng)度以及優(yōu)質(zhì)的品質(zhì)受到業(yè)界的青睞。
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2025-07-01
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BT4000ADLEMA檢漏機(jī)
adlema先進(jìn)的檢漏機(jī)bt4000技 術(shù) 規(guī) 格• 尺 寸 :270x200x300mm• 重 量 :8kg• 電 源 輸 入 :24 vdc• 管 徑 :4x2, 6x4, 8x6, 10x8
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2025-07-01
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InSEM HT美國KLA 原位高溫納米力學(xué)測試系統(tǒng),納米壓痕儀
美國kla insem ht原位高溫納米力學(xué)測試系統(tǒng),納米壓痕儀,樣品加溫可達(dá)800 ℃,樣品尺寸可達(dá)10mm,裝樣系統(tǒng)與真空環(huán)境兼容
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2025-07-01
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URE-2000/34AL型紫外光刻機(jī)
ure-2000/34al型光刻機(jī),曝光分辨率: 0.8μm-1μm ,套準(zhǔn)精度:±0.8-1μm
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2025-07-01
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CYRANNUS®微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
德國iplas mpcvd cyrannus® 利技術(shù)微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),廣泛應(yīng)用于第四代半導(dǎo)體,射頻器件,散熱器件,光學(xué)窗口等高科技令域,晶圓生長金剛石膜,被譽(yù)為半導(dǎo)體終材料。
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2025-07-01
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KA-03日本理音RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:ka-03( 光散射方式),多點(diǎn)監(jiān)視用粒子計(jì)數(shù)器,測試粒徑(5個(gè)通道):≥0.3μm , ≥0.5μm ,≥1μm , ≥2μm ,≥5μm ,大粒子數(shù)濃度:140 000 000顆/l (誤差值低于10%)
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2025-07-01
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KA-82日本理音RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:ka-82( 光散射方式),多點(diǎn)監(jiān)視用粒子計(jì)數(shù)器,測試粒徑(5個(gè)通道):≥0.1μm , ≥0.15μm, ≥0.2μm , ≥0.3μm , ≥0.5μm ,大粒子數(shù)濃度:10 000顆/l (誤差值低于5%)
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2025-07-01
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綠光納鉆孔設(shè)備Standard Drilling Machine綠光納鉆孔設(shè)備
玻璃去油墨設(shè)備,采用訂制紫外納激光器對(duì)玻璃表面進(jìn)行去油墨以及油墨微加工, 將產(chǎn)品損傷降至低。
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2025-07-01
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OAI 800 MBA美國OAI光刻機(jī)
oai 800型光學(xué)正面和背面光刻機(jī)系統(tǒng), 是半自動(dòng),four-camera、光學(xué)正面和背面光刻機(jī)。它提供其精確的(1碌m - 2 m碌)對(duì)準(zhǔn)精度,旨在大大超過任何紅外背后對(duì)準(zhǔn)器性能的一個(gè)非常有競爭力的價(jià)格。通用模型800光刻機(jī)是理想的用于低產(chǎn)量、研發(fā)實(shí)驗(yàn)室和大學(xué)。
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2025-07-01
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NanoFrazor 3D瑞士納米結(jié)構(gòu)高速直寫機(jī)機(jī)
瑞士nanofrazor 3d納米結(jié)構(gòu)高速直寫機(jī),源于發(fā)明stm和afm的ibm蘇黎世研發(fā)中心,是其在納米加工技術(shù)的新研究成果。nanofrazor納米3d結(jié)構(gòu)直寫機(jī)第 一次將納米尺度下的3d結(jié)構(gòu)直寫工藝快速化、穩(wěn)定化。
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2025-07-01
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M160中國nanoArch科研3D打印機(jī)
nanoarch科研3d打印機(jī)m160 ,本套系統(tǒng)創(chuàng)新地使用了自動(dòng)化的多材料送料系統(tǒng),兼顧高精度和多材料打印,可支持同時(shí)打印4種樹脂基復(fù)合材料進(jìn)行層間或?qū)觾?nèi)多材料3d打印,適用于基礎(chǔ)理論驗(yàn)證及原理創(chuàng)新研究,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。其主要應(yīng)用在點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)材料、功能梯度材料、超材料、復(fù)合材料、復(fù)雜微流控,多材料4d打印等方面。
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2025-07-01
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P130/S130中國nanoArch科研3D打印機(jī)
nanoarch微納3d打印機(jī) p130/s130 ,科研3d打印系統(tǒng),擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚,從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
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2025-07-01
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
P140/S140中國nanoArch科研3D打印機(jī)
nanoarch 3d打印機(jī)p140/s140 ,科研3d打印系統(tǒng),擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚,從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
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2025-07-01
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KZ-30UK理音RION 采樣器統(tǒng)
理音rion kz-30uk采樣器,易于操作的室內(nèi)化學(xué)采樣器,當(dāng)腔體壓力過高的時(shí)候, 可以排凈空氣,防止發(fā)生故障 ,設(shè)計(jì)簡單的化學(xué)防爆采樣器,kz-30uk的設(shè)計(jì)是可以為 離線測試的液體粒子計(jì)數(shù)器提供加壓。
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2025-07-01
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NTE-4000,NTE-3500,NTE-3000,NTE-1000美Nano-master熱蒸鍍系統(tǒng)
美nano-master熱蒸鍍系統(tǒng):nte-4000 獨(dú)立式電子束蒸鍍,nte-3500 緊湊型獨(dú)立式熱蒸鍍,nte-3000 雙蒸源臺(tái)式熱蒸鍍系統(tǒng),nte-1000 簡便型熱蒸鍍。熱蒸鍍系統(tǒng)可以跟nano-master那諾-馬斯特的其它任意真空系統(tǒng)組成雙系統(tǒng)。
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2025-07-01
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NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC-1000美Nano-master磁控濺射系統(tǒng)
美nano-master磁控濺射系統(tǒng):nsc-4000獨(dú)立式磁控濺射系統(tǒng),可支持共濺射等能力的擴(kuò)展nsc-3500緊湊型獨(dú)立式熱蒸鍍,可以支持金屬材料的dc濺射,介質(zhì)材料的rf濺射,以及脈沖dc濺射等應(yīng)用。nsc-3000可支持多4個(gè)靶的dc濺射或rf濺射nsc-1000單金靶靶材的臺(tái)式濺射系統(tǒng),不但可用于電鏡制備,也可以用于常規(guī)的金屬濺射
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2025-07-01
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NPE-4000NANO-MASTER的等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PECVD系統(tǒng)
nano-master的等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)pecvd系統(tǒng)npe-4000,可以制造高質(zhì)量的氧化硅、氮化硅、碳納米管、金剛石和碳化硅等薄膜;蹇梢匀菁{8英寸晶圓,可通過射頻、脈沖直流或者直流電源提供偏壓,可通過熱電阻或者紅外燈加熱到800°c。ns
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2025-07-01
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NEE-4000美NANO-MASTER電子束蒸鍍系統(tǒng)
nano-master電子束蒸鍍系統(tǒng) nee-4000,可通過樣片掩膜實(shí)現(xiàn)組合蒸鍍,并可通過電腦控制單個(gè)電子束蒸鍍的蒸鍍速率。系統(tǒng)可支持共蒸鍍功能。能夠升支持自動(dòng)上下片,以及手動(dòng)或自動(dòng)翻轉(zhuǎn)樣片實(shí)現(xiàn)雙面鍍膜。該系列的e-beam電子束蒸鍍系統(tǒng),也可以跟磁控濺射
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2025-07-01
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000美NANO-MASTER IBM離子銑/IBE離子束刻蝕系統(tǒng)
ibm離子銑/ibe離子束刻蝕系統(tǒng):nie-4000 獨(dú)立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nie-3500 緊湊型獨(dú)立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nir-4000 獨(dú)立式 ibe / rie 雙刻蝕系統(tǒng)nie-3000 臺(tái)式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nsc-3000可支持多4個(gè)靶的dc濺射或rf濺射
更新時(shí)間:
2025-07-01
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KC-22A日本RION粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器:kc-22a ( 光散射法),大粒子數(shù)濃度:10000顆/l (誤差值低于5%),可檢測從純水到氫氟酸各種各樣的液體。
更新時(shí)間:
2025-07-01
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KC-22B日本RION粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器:kc-22b ( 光散射法),液體粒子計(jì)數(shù)器,可檢測從純水到氫氟酸各種各樣的液體。
更新時(shí)間:
2025-07-01
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KC-31日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器kc-31 ( 光散射法),測試粒徑(6個(gè)通道),大粒子數(shù)濃度:28000000 顆/l
更新時(shí)間:
2025-07-01
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KC-32日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:kc-32 ( 光散射法)測試粒徑(6個(gè)通道):≥0.3μm, ≥0.5μm , ≥1μm , ≥2μm, ≥5μm, ≥10μm
更新時(shí)間:
2025-07-01
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KC-20A日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:kc-20a ( 光散射法),測試粒徑(5個(gè)通道):≥10μm, ≥20μm , ≥30μm , ≥50μm, ≥100μm
更新時(shí)間:
2025-07-01
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KA-05日本RION粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器:ka-05( 光散射方式),多點(diǎn)監(jiān)視用粒子計(jì)數(shù)器,測試粒徑(2個(gè)通道):≥0.5μm , ≥5.0μm
更新時(shí)間:
2025-07-01
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KE-18FX日本RIO液體粒子計(jì)數(shù)器
日本rio液體粒子計(jì)數(shù)器ke-18fx ( 光散射法),測試粒徑(4個(gè)通道):≥0.04μm, ≥0.08μm , ≥0.1μm , ≥0.15μm,
更新時(shí)間:
2025-07-01
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KS-42D日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀 ks-42d ( 光散射法),大粒子數(shù)濃度:10 000 顆/l (誤差值低于10%),粒徑范圍(8個(gè)通道,出廠默認(rèn)):≥2μm, ≥3μm , ≥5μm , ≥7μm, ≥10μm, ≥25μm , ≥50μm , ≥100μm(可選 ≥150μm)
更新時(shí)間:
2025-07-01
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KL-30AX日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器:kl-30ax ( 光散射法),大粒子數(shù)濃度:15 000 顆/l (誤差值低于10%), 粒徑范圍(4個(gè)通道,工廠標(biāo)配):≥0.04μm, ≥0.08μm , ≥0.1μm , ≥0.15μm
更新時(shí)間:
2025-07-01
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KL-30A日本理音RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:kl-30a ( 光散射法), 測純水,可打印。大粒子數(shù)濃度:15 000 顆/l (誤差值低于10%), 粒徑范圍(4個(gè)通道,出廠設(shè)置):≥0.05μm, ≥0.1μm , ≥0.15μm , ≥0.2μm
更新時(shí)間:
2025-07-01
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
KL-30B日本理音RION 氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:kl-30b ( 光散射法), 測純水,可打印。大粒子數(shù)濃度:200 000 顆/l (誤差值低于10%),粒徑范圍(4個(gè)通道,出廠設(shè)置):≥0.05μm, ≥0.1μm , ≥0.15μm , ≥0.2μm
更新時(shí)間:
2025-07-01
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KC-51日本理音RION 手持式粒子計(jì)數(shù)器
日本rion 手持式粒子計(jì)數(shù)器:kc-51( 光散射方式),大粒子數(shù)濃度:140 000 000顆/m³ (誤差值低于10%)
更新時(shí)間:
2025-07-01
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KC-52日本理音RION 手持式粒子計(jì)數(shù)器
日本rion 手持式粒子計(jì)數(shù)器:kc-52( 光散射方式),粒徑范圍:5個(gè)通道: 0.3μm , 0.5μm , 1.0μm , 2.0μm, 5.0μm, 大粒子數(shù)濃度:140 000 000顆/m³ (誤差值低于10%)
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2025-07-01
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KA-02日本理音RION 氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:ka-02( 光散射方式),多點(diǎn)監(jiān)視用粒子計(jì)數(shù)器,測試粒徑(2個(gè)通道):≥0.3μm , ≥0.5μm,大粒子數(shù)濃度:140 000 000顆/l (誤差值低于10%)
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2025-07-01
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FF35 CT德國YXLON多用途高分辨率CT系統(tǒng)
德國yxlon多用途高分辨率ct系統(tǒng)ff35 ct,微焦點(diǎn)、納米焦點(diǎn)雙射線 源配置,大限度提高多 功能性 • 單或雙射線源配置,可大限度提高 ct 應(yīng)用 多功能性
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2025-07-01
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OCTOPLUS 400德國MBE-Komponenten 分子束外延系統(tǒng)
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f,寬廣的測試范圍,可測試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。octoplus 400 是一款通用型mbe系統(tǒng),非常適合于iii/v族, ii/vi族,及其他復(fù)合半導(dǎo)體材料應(yīng)用。兼容2-4英寸標(biāo)準(zhǔn)晶片。豎直分割式腔體設(shè)計(jì),可以裝配各種源爐,實(shí)現(xiàn)不同材料分子束外延生長。
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2025-07-01
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RTP-150德國UnitemP真空快速退火爐
德國unitemp真空快速退火爐rtp-150, 單晶圓,150mm,快升溫速率可達(dá)150k/s
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2025-07-01
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HERCULES NIL奧地利EVG紫外納米壓印系統(tǒng)
evg的hercules nil 300 mm是一個(gè)完全集成的納米壓印系統(tǒng),是evg的nil產(chǎn)品組合的新成員。 hercules nil基于模塊化平臺(tái),在單個(gè)平臺(tái)上將清洗模塊,抗蝕劑涂層模塊和烘烤預(yù)處理模塊與evg的有smartnil大面積納米壓。╪il)模塊結(jié)合在一起,用于直徑大為300 mm的晶片。
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2025-07-01
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EVG720奧地利EVG紫外納米壓印系統(tǒng)
evg720紫外納米壓印用于從印章到襯底的紫外圖形轉(zhuǎn)移。evg720自動(dòng)納米壓印系統(tǒng)允許襯底和印章的尺寸從很小的芯片到150mm直徑的圓片范圍。
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2025-07-01
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